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濕式除塵環(huán)保拋光機的工作原理是什么?
濕式除塵環(huán)保拋光機是一種電動工具,濕式除塵環(huán)保拋光機由基座、拋光板、拋光布、拋光罩等基本部件組成。電機固定在底座上,用于固定拋光盤的錐套通過螺釘與電機軸連接。拋光織物通過套圈固定在拋光盤上。電機通過底座上的開關由電源啟動后,在旋轉(zhuǎn)的拋光盤上用手拋光。拋光過程中加入的拋光液通過固定在底座上的塑料板內(nèi)的排水管流入拋光設備旁邊的方板。拋光罩可防止機器不使用時灰塵等雜物落在拋光織物上。拋光機操作的關鍵是要獲得最大的拋光速度,以便盡快去除損傷層。同時,拋光損傷層不會影響最終觀察到的組織,也就是說,不會產(chǎn)生假組織。前者需要使用較粗的磨料以確保較大的拋光速度來去除拋光損傷層,但也需要使用較深的拋光損傷層; 后者需要使用最薄的材料使拋光損傷層變淺,但拋光速度較低。
解決這個矛盾的最好辦法就是把拋光分為兩個階段。粗拋光的目的是去除拋光損壞的層,使拋光速度最大化。粗糙拋光引起的表面損傷是次要因素,但為了消除粗糙拋光引起的表面損傷,使拋光損傷降到最低,應盡可能小。拋光機設備時,樣品與拋光盤的研磨面應絕對平行,均勻壓在拋光盤上。同時,樣品應沿轉(zhuǎn)盤半徑旋轉(zhuǎn)前后移動,以避免拋光織物局部磨損過快。當濕度過高時,拋光的磨料效應會減弱,試樣的硬相會增加,鑄鐵中鋼和石墨相中的非金屬夾雜物會“拖曳”,潤滑效應會減弱,磨削表面會失去光澤,甚至出現(xiàn)黑點,輕合金澆注料破損表面。為了達到粗拋的目的,轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速應低,最好不超過600r/min,拋光時間應長于刮痕去除所需時間,因為變形層需要去除。粗糙拋光面光滑,但無光澤,在顯微鏡下觀察磨削痕跡均勻精細,待精細拋光去除。
在精密拋光過程中可適當提高轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速,拋光時間適合粗拋光過程中破損層的去除。拋光的表面像鏡子一樣明亮。這些劃痕在顯微鏡的清晰視野中是看不到的,但在對比度照明下仍然可以看到。拋光機的拋光質(zhì)量對樣品的結(jié)構有很大的影響,逐漸引起了有關專家的關注。近年來,國內(nèi)外對拋光設備的性能進行了大量的研究工作,開發(fā)了許多新型、新一代的拋光設備。